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法国Phasics SID4系列波前分析仪主要应用领域：
1. 激光光束参数测量：相位（2D/3D），M2，束腰位置，直径，泽尼克/勒让德系数
2. 自适应光学：焦斑优化，光束整形
3. 元器件表面质量分析：表面质量（RMS，PtV，WFE），曲率半径
4. 光学系统质量分析：MTF, PSF, EFL, 泽尼克系数, 光学镜头/系统质量控制
5. 热成像分析，等离子体特征分析
6. 生物应用：蛋白质等组织定量相位成像
法国Phasics SID4系列波前分析仪产品特点：
1. 高分辨率：采样点可达120000个
2. 可直接测量：消色差设计，测量前无需再次对波长校准
3. 消色差：干涉和衍射对波长相消
4. 高动态范围：高达500μm
5. 防震设计，内部光栅横向剪切干涉，对实验条件要求简单，无需隔震平台也可测试
型号参数：
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型号 |
SID4 |
SID4-HR |
SID4-DWIR |
SID4-SWIR |
SID4-NIR |
SID4-UV-HR |
SID4- UV |
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孔径 |
3.6 × 4.8 mm² |
8.9 × 11.8 mm² |
13.44 × 10.08 mm² |
9.6 × 7.68 mm² |
3.6 × 4.8 mm² |
13.6 ×10.96 mm² |
8.0 × 8.0 mm² |
|
空间分辨率 |
29.6 µm |
29.6 µm |
68 µm |
120 µm |
29.6 µm |
40 µm |
32 µm |
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采样点/测量点 |
160 × 120 |
400 × 300 |
160 × 120 |
80 × 64 |
160 × 120 |
345 × 275 |
250 × 250 |
|
波长 |
400nm~1100nm |
400nm~1100nm |
3~5µm,8~14 µm |
0.9 ~ 1.7 µm |
1.5 ~ 1.6 µm |
190 ~ 400 nm |
250 ~ 400 nm |
|
动态范围 |
> 100 µm |
> 500 µm |
N/A |
~ 100 µm |
> 100 µm |
> 200 µm |
> 200 µm |
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精度 |
10 nm RMS |
15 nm RMS |
75 nm RMS |
10 nm RMS |
> 15 nm RMS |
10 nm RMS |
10 nm |
|
灵敏度 |
< 2 nm RMS |
< 2 nm RMS |
< 25 nm RMS |
3nm RMS(高增益） <1nmRMS(低增益） |
< 11 nm RMS |
1nm RMS |
0.5 nm |
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采样频率 |
> 60 fps |
> 10 fps |
> 50 fps |
25/30/50/60 fps |
60 fps |
30 fps |
30 fps |
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处理频率 |
10 Hz (高分辨率) |
3 Hz (高分辨率) |
20 Hz |
> 10 Hz (高分辨率） |
10 Hz |
> 3 Hz (高分辨率） |
1 Hz |
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尺寸 |
54×46×75.3mm |
54×46×79mm |
85×116×179mm |
50×50×90mm |
44×33×57.5mm |
51 × 51 × 76 mm |
95×105×84mm |
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重量 |
250 g |
250 g |
1.6 kg |
300 g |
250 g |
300 g |
900 g |
四波横向剪切干涉技术背景介绍
Phasics四波横向剪切干涉（上海屹持光电代理）：当待测波前经过波前分析仪时，光波通过特制光栅（图1）后得到一个与其自身有一定横向位移的复制光束，此复制光波与待测光波发生干涉，形成横向剪切干涉，两者重合部位出现干涉条纹（图2）。被测波前可能为平面波或者汇聚波，对于平面横向剪切干涉，为被测波前在其自身平面内发生微小位移发生微小位移产生一个复制光波；而对于汇聚横向剪切干涉，复制光波由汇聚波绕其曲率中心转动产生。干涉条纹中包含有原始波前的差分信息，通过特定的分析和定量计算梳理（反傅里叶变换）可以再现原始波前（图3）。
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https://www.chem17.com/st326217/erlist_1303064.html
